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2025年

TSMC(台湾積体電路製造)

AI・HPC向け先端プロセス(3nm/5nm)が総ウエハー売上の73%を占め、AI需要が事業成長を牽引。米国に1,650億ドルの追加投資を発表し、AI半導体のグローバル製造基盤を強化。

企業規模大企業(1,000名〜)
地域海外
導入段階全社展開
使用ツール3nmプロセス技術, 先端パッケージング, CoWoS

背景・課題

AIアクセラレーターとHPCチップの需要爆発により、最先端プロセスの製造キャパシティが逼迫。地政学リスクへの対応として製造拠点の分散も求められていた。

取り組み内容

3nmプロセスが総ウエハー売上の22%、5nmが36%を占め、先端技術(7nm以下)が73%に達する。AI・HPC需要に対応するため、2025年3月に米国への1,000億ドル追加投資(累計1,650億ドル)を発表。新たに3工場・2先端パッケージング施設・大規模R&Dセンターを計画。

成果・効果

先端プロセス売上比率73%、米国追加投資1,650億ドル(合計累計)

AI・HPC関連需要が事業成長の主力ドライバーとなり、先端プロセスの売上比率は継続的に上昇。米国投資により数千億ドル規模の半導体バリューをAI等の最先端アプリケーション向けに創出する見込み。

教訓・ポイント

AI半導体のサプライチェーンでは製造能力の確保が最大のボトルネックであり、地政学リスクを考慮した製造拠点分散が戦略的に不可欠。

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