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2025年

エスティーマイクロエレクトロニクス(STMicroelectronics)

欧州半導体大手がAIデータセンター向けSiC/GaNパワー半導体を展開。InnnoscienceとのGaN技術共同開発でAIインフラの電力効率向上を推進。

企業規模大企業(1,000名〜)
地域海外
導入段階全社展開
使用ツールSiCパワー半導体、GaN技術(Innoscience共同開発)

背景・課題

AIデータセンターの電力消費が急増する中、発電・配電・蓄電の各段階でより効率的なパワー半導体が必要に。従来のシリコンベースでは限界があり、SiC/GaN材料への移行が加速。

取り組み内容

InnnoscienceとGaN技術の共同開発契約を締結し、AIデータセンター・自動車・産業用パワーシステムの次世代電力アプリケーションを開発。SiCパワー半導体でデータセンターの効率的なエネルギー生成・配分・蓄電を支援。

成果・効果

Innoscienceと共同開発契約締結、AIデータセンター向け電力ソリューション提供

AIデータセンター向けパワーソリューションの拡充。SiC/GaN両方の材料技術でAIインフラの電力効率向上に貢献。

教訓・ポイント

AIインフラの隠れたボトルネックは電力効率であり、パワー半導体企業にとってはAI時代の大きな成長機会。材料技術の多様化(SiC/GaN両方への投資)がリスク分散に有効。

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